实验室用一体台式超声波清洗器

本系列超声波清洗器一体化设计，内槽采用优质不锈钢冲压成形，外槽采用优质不锈钢制作，比例协调，美观大方，操作简单。主要用于实验分析或实验器具的清洗，还广泛应用于电子、光学、机械、汽车、电镀、液压、珠宝首饰等行业的清洗。

万和超声为您提供清洗液温度的选择　　

      水清洗液最适宜的清洗温度为40-60℃，尤其在天冷时若清洗液温度低空化效应差，清洗效果也差。因此有部分清洗机在清洗缸外边绕上加热电热丝进行温度控制，当温度升高后空化易发生，所以清洗效果较好。当温度继续升高以后，空泡内气体压力增加，引起冲击声压下降，反应出这两因素的相乘作用。

五金件超声波清洗机是根据中小型五金零部件的生产工艺特点而设计的专用清洗设备，槽体用不锈钢制做，耐酸碱的腐蚀，并配有网篮、溢流、加热和循环过滤系统。主要用于精密机械部件、电镀件、轴承、模具、五金工具、餐具等的清洗。

      CVD后清洗：除去CVD过程中的颗粒。 附件及工具的清洗：除去表面所有的沾污物。 硅片清洗设备 可用于完成扩散前、光刻后、CMP后及氧化前等工艺的清洗工作。例如：RCA清洗、SPM清洗、SC清洗、金属离子及杂物去除清洗等。 全自动硅片清洗机 手动硅片清洗机 附件及工具清洗设备 石英管清洗机 酸碱清洗台 有机化学超净工作台 部件清洗台 氮气储存柜 硅片清洗设备特点 手动硅片清洗设备。济宁万和超声电子设备有限公司 可根据不同的清洗工艺配置各种相应的清洗功能槽。

      导体/ LED/ LD硅片清洗可广泛用于IC生产及半导体元器件生产中晶片的湿法化学工艺。该设备可有效去除晶片表面的有机物、颗粒、金属杂质、自然氧化层及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破坏晶片表面特性。 用途 炉前（RCA）清洗：扩散前清洗。 光刻后清洗：除去光刻胶。 氧化前自动清洗：氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。 抛光后自动清洗：除去切、磨、抛的沾污。 外延前清洗：除去埋层扩散后的SiO2及表面污物。 合金前、表面钝化前清洗：除去铝布线后，表面杂质及光胶残渣。 离子注入后的清洗：除去光刻胶，SiO2层。 扩散预淀积后清洗：除去预淀积时的BSG和PSG。

济宁万和超声电子设备有限公司根据您的要求进行生产。