不锈钢精密蚀刻的相关应用：

     从金碧辉煌的上海金茂大厦、巍然耸立的吉隆坡双子塔，到全不锈钢外壳造型的洛杉矶迪斯尼音乐厅、英国伦敦滑铁卢火车站；从15万平方米的屋顶、452米高的塔身，到精致的装饰件和小巧的结构件，不锈钢对可持续建筑作出的贡献充分证明了这一点，它是可持续性的建筑材料，并在世界各地散发着一般材料所不具有的独特魅力。

  不锈钢精密蚀刻板的特点：不锈钢蚀刻板不会产生腐蚀、点蚀、锈蚀或磨损。由于不锈钢蚀刻板具有良好的耐腐蚀性，所以它能使结构部件永久地保持工程设计的完整性。含铬不锈钢还集机械强度和高延伸性于一身，易于部件的加工制造，加上其使用寿命长、可循环和再利用。

揭秘PCB外层电路的蚀刻工艺    

在与此相关的化学蚀刻（亦称之为光化学蚀刻或PCH）领域中,研究工作已经开始，并达到了蚀刻机结构设计的阶段。在这种方法中,所使用的溶液为二价铜，不是氨-铜蚀刻。它将有可能被用在印制电路工业中。在PCH工业中，蚀刻铜箔的典型厚度为5到10密耳（mils），有些情况下厚度则相当大。它对蚀刻参量的要求经常比PCB工业中的更为苛刻。

　　有一项来自PCM工业系统中的研究成果，目前尚未正式发表，但其结果将是令人耳目一新的。由于有较雄厚的项目基金支持，因此研究人员有能力从长远意义上对蚀刻装置的设计思想进行改变,同时研究这些改变所产生的效果。比如,与锥形喷嘴相比，好的喷嘴设计采用扇形，并且喷淋集流腔（即喷嘴拧进去的那段管子）也有一个安装角度,能对进入蚀刻舱中工件呈30度喷射.如果不进行这样的改变，那么集流腔上喷嘴的安装方式会导致每个相邻喷嘴的喷射角度都不是完全一致的。第二组喷嘴各自的喷淋面与前一组相对应的略有不同。这样使喷射出的溶液形状成为叠加或交叉的状态。从理论上讲，如果溶液形状相互交叉，那么该部分的喷射力就会降低，不能有效地将蚀刻表面上的旧溶液冲掉而保持新溶液与其接触。在喷淋面的边缘处，这种情况尤其突出。其喷射力比垂直方向的要小得多。

　　这项研究发现,领先的设计参数是65磅/平方英寸（即4+Bar）。每个蚀刻过程和每种实用的溶液都有一个好的喷射压力的问题,而就目前来讲，蚀刻舱内喷射压力达到30磅/平方英寸（2Bar）以上的情况微乎其微。有一个原则，即一种蚀刻溶液的密度（即比重或玻美度）越高，好的喷射压力也应越高。当然这不是单一的参数。另一个重要的参数是在溶液中控制其反应率的相对淌度（或迁移率）。

应用材料公司推出全新刻蚀系统 实现原子级生产精度

全新的Centris? Sym3?刻蚀系统采用创新腔室架构，可使材料清除达到原子级精度

该系统已成功安装于多家客户的主要生产线中，成为公司历史中应用率上升最快的蚀刻设备

加利福尼亚州圣克拉拉，2015年7月13日 — 应用材料公司今天宣布推出下一代刻蚀设备Applied Centris? Sym3? 刻蚀系统。该系统设有全新的反应腔，可实现原子级精度工艺。为了克服芯片内部特征差异，Centris Sym3系统超越了现有的蚀刻技术，大幅改善了蚀刻的可控性和精准度，提供给芯片制造商制造先进内存和逻辑芯片的密集型三维结构。

应用材料公司蚀刻业务部门副总裁兼总经理Raman Achutharaman博士表示：“凭借我们在蚀刻技术领域20多年的研究成果，以及在精密材料清除工艺方面的专业经验，采用完全全新设计的Sym3系统能够解决行业内现有以及未来即将面临的诸多挑战。由于客户需求十分强劲，该新系统成为应用材料公司历史中应用率上升最快的蚀刻设备，目前在许多领先的晶圆厂都已完成产量爬坡。”

Centris Sym3蚀刻系统的反应腔采用了应用材料公司独创的True Symmetry? 技术，具有多个调准控制头，能将全球工艺一致性地优化至原子级水平。该系统的设计关键是对影响芯片内图形一致性的蚀刻副产品进行了有效控制和清除，减少其再沉积，从而解决了刻线边缘粗糙、负载效应以及缺陷等阻碍新技术节点发展的一系列挑战。此外，先进的射频技术能有效控制离子能量和角度分布，从而使高深宽比三维结构实现无与伦比的垂直分布。

Centris Sym3平台配备6个刻蚀反应腔和2个等离子清洗腔，并配有系统智能监控软件，确保每个刻蚀反应腔的所有工艺都能保持精准匹配，从而实现可重复、高效率的大批量生产。