温州驰诚真空机械有限公司【】是一家集真空镀膜机_真空镀膜设备研发生产销售为一体的真空镀膜机服务企业，公司主导真空镀膜机，真空镀膜设备，连续磁控镀膜生产线，车灯保护膜镀膜设备，立式蒸发镀膜设备，磁控溅射镀膜设备：其中真空镀膜设备已经达到国内领先水平。电话:0577-56615101

CCZK-EL立式蒸发镀膜设备产品介绍：

   腔体结构： 采用立式双开门，后置真空获得系统

   电源类型： 配置电阻蒸发电源、离子轰击电源、可控硅电源

   材质用料： 严选采用优质碳钢或不锈钢材质

　泵抽系统： 装备扩散泵或分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵（配置可选深冷泵）

　冷却系统： 水循环冷却方式，另需配冷却水塔或工业冷水机。

　转动系统： 公自转结合，变频调节

　智能**： PLC智能**+HMI全彩人机触控界面，实现全自动**

　报警及保护：异常情况进行报警，并执行相应保护措施。

其他技术参数：

   极限真空： 5.0×10-4Pa

　抽气速率： 5.0*10-2≤5min

　水压流速≥0.2Mpa 3m3/h；水温≤25℃；气压：0.4-0.8Mpa；

备注：

一般规格：

   Φ1000mm*H1200mm，Φ1400mm*H1600mm,Φ1200mm*H1500mm，

　Φ1800mm*H2000mm, Φ2000mm*H2200mm

真空室尺寸或设备配置可按客户产品及特殊工艺要求订做:

   真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
   需要镀膜的被成为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
   蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。

真空镀膜机多片式比较片装置的设计特点:

   1)固定筒3 圆筒形状、大直径、厚壁结构的设计和周向对称的固定方式，可保证其有足够的强度和刚度，同时，还可阻止高温溅射磨料对其内部零部件污染，保证拨动盘15 转动的灵活性。

   2)圆形轴承座2 的设计，保证轴承座安装的密封性和垂直度；增大轴1 的直径尺寸，加大轴承座2 中两轴承的安装间距，提高其自身的强度和刚度，保证转动过程中轴1 的刚度和拨动盘15的旋转灵活性、位置重复的一致性。

  3)装载换位机构，通过扩大支承盘16 的直径，使该机构在平面方向的有效面积增大，可安装直径大(Φ26.5mm)的比较片，有利于光路调整，提高光学薄膜质量；比较片12 由单片玻璃作为一个比较片单元，比较片采用空间立体叠加安装方式，多片玻璃叠加安装在一个比较片存储筒13 内，实现一次可放置50~100 片比较片，解决镀膜机镀制多层精密光学薄膜，比较片数量少影响镀膜层数和精度的问题。

   4)查找盘6 与槽型光藕17 的配合，通过槽型光藕来感知查找盘上三个均分的120°狭缝，**电机转动停止。轴1 旋转查找重复的一致性得到保证，带动拨动盘15 完成准确的拨片动作。

   5) 转动密封馈入机构引入威尔逊密封机构5，既保证电机9 通过齿轮啮合带动轴1 的灵活转动，又保证真空室对外部的密封作用。优化设计的真空镀膜机多片式比较片装置，

CCZK-EL立式蒸发镀膜设备其特点：

   1)结构简单，强度高，可靠性好；

   2)比较片装载数量大，生产效率提高，可镀制超多层精密光学薄膜；

   3)比较片直径增大，提高薄膜监控的精度，降低对硬件系统的要求，系统容易实现自动**；

                          CCZK-EL立式蒸发镀膜设备

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三、当使用的场合非常重要或环境比较复杂时,请您尽量提供设计图纸和详细参数，由我们的专家为您审核把关。
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