北京冠金利新材料科技有限公司长期生产铬靶材，铬靶，纯铬靶材，高纯铬，铬靶材用于真空溅射镀膜，磁控溅射铬靶材，多弧离子镀铬靶材，平面铬靶材，旋转铬靶材等。

高纯铬靶材、铬靶的详情介绍：

高纯铬靶材常用的尺寸是：直径100厚40等，我公司可做圆形铬靶材，矩形铬靶材，管状铬靶材。

高纯铬靶材纯度：铬靶材纯度为99.5%、99.9%、99.95%，99.99%。

高纯铬靶材货期：常规尺寸5-7个工作日，非常规尺寸10-15个工作日。

高纯铬靶材用途：铬靶材用于真空镀膜，镀制刀具涂层、装饰涂层、耐高温涂层、电子半导体涂层、保护涂层等。

联系人：吴先生13683591369   邮件：

一、 高纯金属（包括稀土）溅射靶材

高纯铝靶材Al 高纯铜靶材Cu 高纯铁靶材Fe 高纯钛靶材Ti 高纯镍靶材Ni

高纯镁靶材Mg高纯铬靶材Cr 高纯锌靶材Zn 高纯银靶材Ag 高纯钴靶材Co

高纯铌靶材Nb 高纯锡靶材Sn 高纯铟靶材In 高纯锆靶材Zr 高纯钽靶材Ta

高纯锗靶材Ge 高纯硅靶材Si  高纯钨靶材W 高纯铪靶材Hf 高纯钇靶材Y

高纯钆靶材Gd 高纯钐靶材Sm 高纯镝靶材Dy 高纯铈靶材Ce 高纯镧靶材La

高纯金靶材Au 高纯不锈钢靶材 高纯石墨靶材C 高纯硒靶材Se高纯钼靶材Mo

高纯铂靶材Pt 高纯铅靶材Pb   高纯镨靶材Pr  高纯铽靶材Tb 高纯钬靶材Ho

高纯镱靶材Yb 高纯铥靶材Tm 高纯镥靶材Lu  高纯铒靶材Er 高纯钪靶材Sc

二、 高纯陶瓷溅射靶材

氧化物陶瓷靶：

一氧化硅靶SiO 二氧化硅靶SiO2 氧化镁靶MgO 氧化铁靶Fe2O3 氧化铬靶Cr2O3 氧化锌靶ZnO 氧化铈靶CeO2 氧化锆靶ZrO2 氧化铌靶Nb2O5 二氧化钛靶TiO2 二氧化铪靶HfO2 三氧化钨靶WO3 氧化铝靶Al2O3 氧化钽靶Ta2O5

非氧化物陶瓷靶：

氮化硅靶Si3N4 氮化钛靶TiN 氮化铝靶AlN 氮化硼靶BN 碳化硅靶SiC

钛酸钡靶BaTiO3 钛酸镧靶LaTiO3 钛酸镨靶PrTiO3  铌酸锂靶   硒化锌靶ZnSe 氟化钇靶YF3  氟化镁靶MgF2、碳化钛TiC 碳化铪HfC 碳化锆ZrC 碳化铌NbC 碳化钽TaC 二硼化钛、二硼化锆、二硼化铪、氯氧化锆、氯氧化铪、二硅化钼、二硫化钼等陶瓷靶材。

高纯合金溅射靶材

二元合金靶

镍铬靶Ni-Cr 镍铁靶Ni-Fe 镍钴靶Ni-Co 镍锆靶Ni-Zr 镍铝靶Ni-Al镍铜靶Ni-Cu  镍钒靶Ni-V铜铟靶Cu-In  铜镓靶Cu-Ga 铜硒靶Cu-Se  钛铝靶Ti-Al  铝硅靶Al-Si  铝铜靶Al-Cu 铝钛靶Al-Ti 铝镁靶Al-Mg  银铜靶Ag-Cu    铁锰靶Fe-Mn   铟锡靶In-Sn    钴铁靶Co-Fe钨钛靶W-Ti  锌铝靶Zn-Al   铝钪靶Al-Sc  铜锡靶Cu-Sn  锆铝靶Zr-Al     锆铁靶Zr-Fe    锆硅靶Zr-Si   钒铝靶V-Al硼铁靶B-Fe

多元合金靶

钴铁硼靶Co-Fe-B 铜铟镓靶Cu-In-Ga 铜铟镓硒靶Cu-In-Ga-Se等。

混合物靶材

ITO靶、AZO靶、IGZO靶、FTO靶、ATO靶、GZO靶、ITZO靶、IZTO靶等。

所有产品纯度在99.9%-99.9999%之间，产品尺寸可按客户要求定做。

如有需要请来电咨询，我们会对靶材生产工艺及纯度等相关参数给您做详细介绍。