半导体晶片位置的测定（平板影印术） 电涡流传感器

目标

      1对于在应用于半导体晶片的成产的平板影印术过程中，测定Z轴位置，精度保持在亚原子水平。

      2 保持高分辨率和可重复性。

      3 避免不良的影响，例如 抖动，磁滞，以及热漂移等一些列在其他阶段处理中发生的情况。

半导体晶片位置的测定解决方案

      在控制Z轴高度的过程中，晶片所在的位置必须地在能源的焦平面上。Kaman电涡流传感器系统可以准确测量Z轴的位置，并且电涡流传感器提供了模拟和数字两种输出信号，以防止超出可承受范围。

电涡流传感器特点

     1 类型：SMT-9700

     2 非接触性：应用涡电流的技术，每一个电涡流传感器均可以无接触地测量到目标体的位置。

     3 高分辨率：系统可分辨出1纳米的位置改变。

     4 可重复使用。

     5 应用广泛。

详情请访问：

英国真尚有集团

深圳市真尚有科技有限公司

电话：0755 - 26528100 / 26528011/26528012

传真：0755-26528210/26435640

半导体晶片位置的测定（平板影印术） 电涡流传感器

目标

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      2 保持高分辨率和可重复性。

      3 避免不良的影响，例如 抖动，磁滞，以及热漂移等一些列在其他阶段处理中发生的情况。

半导体晶片位置的测定解决方案

      在控制Z轴高度的过程中，晶片所在的位置必须地在能源的焦平面上。Kaman电涡流传感器系统可以准确测量Z轴的位置，并且电涡流传感器提供了模拟和数字两种输出信号，以防止超出可承受范围。

电涡流传感器特点

     1 类型：SMT-9700

     2 非接触性：应用涡电流的技术，每一个电涡流传感器均可以无接触地测量到目标体的位置。

     3 高分辨率：系统可分辨出1纳米的位置改变。

     4 可重复使用。

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      2 保持高分辨率和可重复性。

      3 避免不良的影响，例如 抖动，磁滞，以及热漂移等一些列在其他阶段处理中发生的情况。

半导体晶片位置的测定解决方案

      在控制Z轴高度的过程中，晶片所在的位置必须地在能源的焦平面上。Kaman电涡流传感器系统可以准确测量Z轴的位置，并且电涡流传感器提供了模拟和数字两种输出信号，以防止超出可承受范围。

电涡流传感器特点

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     2 非接触性：应用涡电流的技术，每一个电涡流传感器均可以无接触地测量到目标体的位置。

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      2 保持高分辨率和可重复性。

      3 避免不良的影响，例如 抖动，磁滞，以及热漂移等一些列在其他阶段处理中发生的情况。

半导体晶片位置的测定解决方案

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电涡流传感器特点

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     2 非接触性：应用涡电流的技术，每一个电涡流传感器均可以无接触地测量到目标体的位置。

     3 高分辨率：系统可分辨出1纳米的位置改变。

     4 可重复使用。

     5 应用广泛。

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      1对于在应用于半导体晶片的成产的平板影印术过程中，测定Z轴位置，精度保持在亚原子水平。

      2 保持高分辨率和可重复性。

      3 避免不良的影响，例如 抖动，磁滞，以及热漂移等一些列在其他阶段处理中发生的情况。

半导体晶片位置的测定解决方案

      在控制Z轴高度的过程中，晶片所在的位置必须地在能源的焦平面上。Kaman电涡流传感器系统可以准确测量Z轴的位置，并且电涡流传感器提供了模拟和数字两种输出信号，以防止超出可承受范围。

电涡流传感器特点

     1 类型：SMT-9700

     2 非接触性：应用涡电流的技术，每一个电涡流传感器均可以无接触地测量到目标体的位置。

     3 高分辨率：系统可分辨出1纳米的位置改变。

     4 可重复使用。

     5 应用广泛。

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