半导体晶片位置确定（物理气相沉淀) 电涡流传感器

目标

    1 能够地调整和保持半导体晶片在进行物理气相沉淀（PVD）室中整齐排列。

    2 避免在进入沉淀室时，由于排列不整齐而造成晶片损坏。

    3 确保沉淀物统一地沉淀在晶片上。

半导体晶片位置确定解决方案

    在物理气相沉淀系统中，晶片会被放入不同的沉淀室里，每一个沉淀室用来沉淀不同的物质。电涡流传感器被安装在沉淀室的内侧（如图所示）。每个电涡流传感器测量载有晶片的传送器在沉淀室中的位置。Kaman电涡流传感器系统提供了模拟和数字两种输出信号，以防止超出系统可承受的范围。

    结果：提高了时间和精度。

电涡流传感器特点

     1 类型：SMT-9700

     2 非接触性：应用涡电流的技术，每一个电涡流传感器均可以无接触地测量到目标体的位置。

     3 高分辨率：系统可识别

     4 重复性：  Kaman电涡流传感器可以提供高精度的性能，可以反复用于物理气相沉淀。

     5 系统多功能性：测量系统可以广泛用于测量的各个领域。

详情请访问：

英国真尚有集团

深圳市真尚有科技有限公司

电话：0755 - 26528100 / 26528011/26528012

传真：0755-26528210/26435640

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    2 避免在进入沉淀室时，由于排列不整齐而造成晶片损坏。

    3 确保沉淀物统一地沉淀在晶片上。

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    在物理气相沉淀系统中，晶片会被放入不同的沉淀室里，每一个沉淀室用来沉淀不同的物质。电涡流传感器被安装在沉淀室的内侧（如图所示）。每个电涡流传感器测量载有晶片的传送器在沉淀室中的位置。Kaman电涡流传感器系统提供了模拟和数字两种输出信号，以防止超出系统可承受的范围。

    结果：提高了时间和精度。

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     1 类型：SMT-9700

     2 非接触性：应用涡电流的技术，每一个电涡流传感器均可以无接触地测量到目标体的位置。

     3 高分辨率：系统可识别

     4 重复性：  Kaman电涡流传感器可以提供高精度的性能，可以反复用于物理气相沉淀。

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    2 避免在进入沉淀室时，由于排列不整齐而造成晶片损坏。

    3 确保沉淀物统一地沉淀在晶片上。

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    结果：提高了时间和精度。

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     3 高分辨率：系统可识别

     4 重复性：  Kaman电涡流传感器可以提供高精度的性能，可以反复用于物理气相沉淀。

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    2 避免在进入沉淀室时，由于排列不整齐而造成晶片损坏。

    3 确保沉淀物统一地沉淀在晶片上。

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    2 避免在进入沉淀室时，由于排列不整齐而造成晶片损坏。

    3 确保沉淀物统一地沉淀在晶片上。

半导体晶片位置确定解决方案

    在物理气相沉淀系统中，晶片会被放入不同的沉淀室里，每一个沉淀室用来沉淀不同的物质。电涡流传感器被安装在沉淀室的内侧（如图所示）。每个电涡流传感器测量载有晶片的传送器在沉淀室中的位置。Kaman电涡流传感器系统提供了模拟和数字两种输出信号，以防止超出系统可承受的范围。

    结果：提高了时间和精度。

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     2 非接触性：应用涡电流的技术，每一个电涡流传感器均可以无接触地测量到目标体的位置。

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     4 重复性：  Kaman电涡流传感器可以提供高精度的性能，可以反复用于物理气相沉淀。

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