工厂低价转让12台8成新  湖南宇晶双面抛光研磨机

9B双面研磨机使用范围：

　　本机主要适用于硅片、石英晶片、光学晶体、玻璃、宝石、铌酸锂、砷化镓、陶瓷片等薄脆金属或非金属的研磨或抛光。

9B双面研磨机原理：

　　本系列研磨机为精密磨削设备,上、下研磨盘作相反方向转动，工件在载体内作既公转双自转的游星运动.磨削阻力小不损伤工件,而且两面磨削均匀,生产效率高.

9B双面研磨机技术参数

　　1、研磨盘直径(MM):φ622×φ218×25(上盘)φ622×φ218×30(下盘)

　　2、最大理想研磨直径(MM)：φ180

　　3、加工件平面度：0.2μ(φ10)

　　4、游轮参数：英制DP12，Z=108

　　5、游轮数量：5个

　　6、最小研磨厚度：0.1mm(φ10mm)

　　7、主机功率：3.7KW(研磨)5.5KW(抛光)

　　8、下研磨盘转速(rpm): 0~60rpm

　　9、砂泵功率：120W

　　10、流砂形式：循环或点滴

　　11、设备外形尺寸(MM)：单电机 1350X950X2200MM 抛光机 1500X1000X2200

　　12、重量(KG)：~1980kg

　　1、采用交流变频电机驱动，软启动、软停止，平稳可靠。

　　2、油压升降齿圈、非常平稳，太阳轮下有垫片可调整位置，有效利用了齿圈和太阳轮。

　　3、上盘单独设置了缓降气缸，不但有效防止了薄脆工件的破碎，而且还可独立进行压力控制。

　　4、通过使用电子预置计数器，研磨的圈数、要求可准确控制。

　　5、可以采用修盘方式修整研磨盘。

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