整流器真空镀膜电源

是真空镀膜设备的重要组成部分。例如在真空溅射设备中就是由溅射室、磁控溅射靶、对向磁控靶、射频电源、直流电源、样品加热转台等组成。

    真空镀膜行业不同于以往的电镀行业，属于物理方式的表面处理行业。广泛用于各种金属及非金属镀膜装置，涂镀光元件、微电子元件、磁性元件、钟表、种类装饰材料、体育用品、精密工模具、薄膜包装等镀膜制品，以及应用于现代工业、航空航天航海等军事领域的镀耐蚀膜、耐磨损膜、固体润滑膜装置。    真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度（HV,UHV）而拥有统一名称。真空镀膜主要分类有两个大种类：蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等。                                                      

   一、对于蒸发镀膜： 一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。                                                                     

   二 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。真空获得及测量系统、电控系统、气路系统、微机控制膜层系统等组成。       、

 

整流器真空镀膜电源

产品特点：

1、恒流输出，不随气压变化。 

2、抑制靶材弧光放电及抗短路功能, 具有 负载匹配能力。

3、工艺重复性好。

4、提高成膜速度， 实现高质量的溅射膜层。

技术参数：

品名	整流器真空镀膜电源
型号	KSF系列
输入	相数	单相或三相
	电压	220/380V
	频率	50Hz
	输入方式	4线（含地线）
输出	波形	直线
	功率	30KW /60KW /100KW（可定制）
	电压	0—1200V（可定制）
	稳定度	≤1%
	电流	0—200A（可定制）
	稳定度	≤1%
	纹波及杂讯	≤5%或≤3%
	效率	≥90%
控制	功率	可选择
	电压	恒压控制，可本地控制也可通过0-10V或4-20mA
	电流	可选择
保护	具备缺相、过热、限压、恒功率、过压、过流、短路、超载等保护功能
冷却	风冷
外型	外壳
	尺寸(W*D*H)	482.6mm*600mm*266.7mm（30KW）
重量	30KG（30KW）
备注	电源型号可按客户需求定制