涡电流传感器 半导体晶片位置确定（物理气相沉淀)

目标

    1 能够地调整和保持半导体晶片在进行物理气相沉淀（PVD）室中整齐排列。

    2 避免在进入沉淀室时，由于排列不整齐而造成晶片损坏。

    3 确保沉淀物统一地沉淀在晶片上。

解决方案

    在物理气相沉淀系统中，晶片会被放入不同的沉淀室里，每一个沉淀室用来沉淀不同的物质。涡电流传感器被安装在沉淀室的内侧（如图所示）。每个传感器测量载有晶片的传送器在沉淀室中的位置。Kaman涡电流传感器系统提供了模拟和数字两种输出信号，以防止超出系统可承受的范围。

    结果：提高了时间和精度。

特点

     1 涡电流传感器类型：SMT-9700

     2 非接触性：应用涡电流的技术，每一个涡电流传感器均可以无接触地测量到目标体的位置。

     3 高分辨率：系统可识别

     4 重复性：  Kaman涡电流传感器可以提供高精度的性能，可以反复用于物理气相沉淀。

     5 系统多功能性：测量系统可以广泛用于测量的各个领域。

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