
粘合剂强度 (N/20 mm)
| 0.80 |
| 展开力 (N/20 mm) | 0.20 |
| 总厚度 (mm) | 0.080 |
| 延展率 (%) | 200 |
| 抗拉强度 MD (N/20 mm) | 50 |
| 宽度 (mm) | 1250 |
| 颜色 | 透明/淡蓝 |
用于尖端电子和光学领域的遮蔽/表面保护材料。
薄膜的优良特性使这些产品在电子和光学领域的尖端生产设施方面享有盛誉。 这些产品的用途十分广泛,既可在电子产品材料生产的蚀刻加工中起遮蔽作用,也可用于保护 LCD 元件。
联系 (关于产品)
特征
E-MASK RP 系列适用于保护抗静电性光学级保护膜的表面,生产于1000 级清洁环境下,并以一种聚合物薄膜作为基材。
聚酯基保护膜 E-MASK AW 系列采用了聚氨酯粘合剂,具有优良的润湿性,尤其适用于在生产加工和运输过程中保护触摸屏,也同样适合在运输过程中保护智能手机和平板电脑。
E-MASK R 系列和 HR 系列是利用 Nitto Denko 的专利粘合剂合成技术研发的聚乙烯基表面保护材料。 这两个系列产品都特别适合在加工和运输过程中保护液晶显示屏偏光膜、硬质涂层或非固化处理的丙烯酸板和聚合物薄膜表面。
E-MASK RB-S 系列表面保护材料用于防止 LCD 偏光膜等光学薄膜产生静电。 具有稳定的粘合性且易剥离。