化学镀又称为无电解镀(Electroless plating)，也可以称为自催化电镀(Autocatalytic plating)[1]。具体过程是指:在一定条件下，水溶液中的金属离子被还原剂还原，并且沉淀到固态基体表面上的过程。ASTM B374(ASTM，美国材料与试验协会)中定义为Autocatalytic plating is 'deposition of a metallic coating by a controlled chemical reduction that is catalyzed by the metal or alloy being deposited'。这一过程与置换镀不同，其镀层是可以不断增厚的[2]，且施镀金属本身也具有催化能力。

       化学镀中发展最快的一种。镀液一般以硫酸镍、乙酸镍等为主盐，次亚磷酸盐、硼氢化钠、硼烷、肼等为还原剂，再添加各种助剂。在90℃的酸性溶液或接近常温的中性溶液、碱性溶液中进行作业。以使用还原剂的不同分为化学镀镍-磷、化学镀镍-硼两大类。镀层在均匀性、耐蚀性、硬度、可焊性、磁性、装饰性上都显示出优越性。

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化学镀镍是近几年发展较快的表面处理技术，它借助于合适的还原剂次磷酸盐使溶液中的镍离子在催化剂的作用下被还原成金属镍而沉积在零件上。因其不需外加电源、镀层均匀、硬度高、耐蚀、耐磨性能好、镀覆不受零件尺寸形状限制等一系列综合物理化学性能的优点，在各个工业领域被广泛的应用

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化学镀镍的性能优点：

     耐磨性能对于中高磷镀层而言，经过适当的热处理后，镍磷合金镀层的拥有较好的自润滑性能，而低磷镀层拥有较高的硬度，但是在进行的磨损性能试验证明高磷镀层的耐磨性能高于低磷合金镀层。为了提高镍磷镀层的耐磨性，在镍磷镀层中加入硬度极高的W，形成三元合金镀层，其耐磨性能大幅提高。