反应室中的反应是很复杂的，有很多必须考虑的因素，沉积参数的变化范围是很宽的：反应室内的压力、晶片的温度、气体的流动速率、气体通过晶片的路程(如图所示)、气体的化学成份、一种气体相对于另一种气体的比率、反应的中间产品起的作用、以及是否需要其它反应室外的外部能量来源加速或诱发想得到的反应等。额外能量来源诸如等离子体能量，当然会产生一整套新变数，如离子与中性气流的比率，离子能和晶片上的射频偏压等。
然后，考虑沉积薄膜中的变数：如在整个晶片内厚度的均匀性和在图形上的覆盖特性(后者指跨图形台阶的覆盖)，薄膜的化学配比(化学成份和分布状态)，结晶晶向和缺陷密度等。当然，沉积速率也是一个重要的因素，因为它决定着反应室的产出量，高的沉积速率常常要和薄膜的高质量折中考虑。反应生成的膜不仅会沉积在晶片上，也会沉积在反应室的其他部件上，对反应室进行清洗的次数和彻底程度也是很重要的。
1200度真空管式炉 RK1200系列
RK1200系列产品用途：
主要用于稀土制备、电子照明、晶体退火、生物陶瓷、电子陶瓷、特种合金、磁性材料、精密铸造、金属热处理等行业进行真空烧结、气氛保护烧结、真空镀膜、CVD实验、物质成分测量等场合。
产品尺寸：
RK1200系列产品分为四个型号：RK1200-60 、RK1200-80 、RK1200-100 、RK1200-120
使用容积均为3L，炉膛尺寸分别对应wie：Φ60*1000mm 、Φ80*1000mm 、Φ100*1000mm 、Φ120*1000mm
管式加热炉炉管管内流速的选择：对于气、液混相的炉管内，流速的低限是必须保证流型符合要求，以避免局部过热，流速的上限是临界流速（即该状态的声速）。
(流速加大时，介质停留时间短，减少结焦分解的危险，还可以增加传热系数；但过大流速，压力降(与流速平方成正比)会变得大造成不必要的能量损失，甚至不满足工艺要求。一般最.大流速为临界流速80%-90%)
