HCE系列光纤光谱仪真空镀膜的监控

光纤光谱仪为真空室内镀膜过程的监控提供了一种灵活的测量手段，它可以方便地把光引入并引出真空室或洁净工作仓，同时选择镀膜过程分析所需要测量的参数。在实际的在线生产中，可以在工作仓中放置几个探头来检测整个生产过程。图示为真空室镀膜过程监控的典型实验布局。在这里一个反射型光纤探头用来在线监测镀膜过程。氘-卤素灯发出的光被导入真空室并传导到反射探头上，反射光由反射探头传导到光谱仪中；也可以再增加一个通道作为参考测量来补偿光源的波动。

HPF系列光纤光谱仪的应用范围

HPF系列最短是积分时间为4.2ms，可以应用在需要高灵敏度、良好紫外响应和大动态范围的应用领域。其定位是“科学级”光谱仪，其适用于荧光测量、拉曼光谱、DNA测序、天文学、和长积分时间等实验。

    通常使用的光学系统有：溶液吸光度、上升流/下降流、氧传感、气体吸收率、荧光测量、LED分析、激光分析、激光诱导击穿光谱(LIBS)、膜厚测试、UV-VIS反射测量、反射颜色测量系统。

    一般光学系统由激发光源、光纤、样品架、光谱仪、数据处理系统等组成，每个部件的选择都可能对系统整体的的测量范围和精度有很大影响，可以根据实际需求进行搭配以获得最符合客户需求的光谱系统配置。例如测量强光强时采用余弦校正器以减弱光强，工作波段位于紫外时采用紫外波段的光源和光谱仪。

HPF系列光谱仪测量薄膜厚度

捷扬光电的膜厚测量系统基于白光干涉测量原理，可以测量的膜层厚度10nm-50μm，分辨率为1nm。薄膜测量在半导体晶片生长过程中经常被用到，因为等离子体刻蚀和淀积过程需要监控；其它应用如在金属和玻璃材料基底上镀透明光学膜层也需要测量膜层厚度。配套的捷扬光谱分析软件包括丰富的各种常用材料和膜层的n值和k值，可以实现膜层厚度的在线监测，并可以输出到Excel文件进行过程控制。