中文名称： 一氧化二氮 氧化亚氮 

 化学式：N2O

 纯度：99.5%（2.5N医用）

 包装：40L

 医用充装量：20公斤

 充装压力：6mpa

 英文名称：Dinitrogen oxide；Laughing gas
 CAS No.：10028-97-2

 分子量：44.01

 99.5医用纯度指标参考

 一氧化二氮主要应用于电子工业与医学领域中

1. 作为一种检漏剂、制冷剂、以及用作原子吸收光谱用的助燃剂。

2. 在喷灯中用作氧化剂；在半导体器件制造工艺中，用作平衡报或保护气；在化学气相淀积（CVD）工艺中，用于制备掺杂二氧化硅膜。

3. 一氧化二氮还广泛用于压力包装领域，并在该领域中作为不同悬浮微粒产品的推进剂。

4. 在食品工业中，大量用作生奶油的泡沫喷射剂和食品的密封剂。在食品浸没冷冻中用作冷冻气体和冷冻液体。

5. 一氧化二氮也可作为火箭燃料中的辅助配料。

6. 增加车辆速度使用氮氧加速系统的改装车辆将一氧化二氮送入引擎，遇热分解成氮气和氧气，提高引擎燃烧率，增加速度。氧气有助燃作用，加快燃料燃烧。

主要医学用途

  因全麻效果差，常与、甲氧、或静脉全麻药合用。现已少用。氧化亚氮(N?O)用于,对呼吸道无刺激，对心、肺、肝、肾等重要脏器功能无损害。在体内不经任何生物转化或降解，绝大部分仍以原药随呼气排出体外，仅小量由皮肤蒸发，无蓄积作用。吸入体内只需要30s～40s 即产生镇痛作用，镇痛作用强而作用弱，受术者处于清醒状态(而不是状态),避免了全身并发症，手术后恢复快。

 操作：密闭操作，提供良好的自然通风条件。操作人员必须经过专门培训，严格遵守操作规程。远离火种、热源，工作场所严禁吸烟。远离易燃、可燃物。防止气体泄漏到工作场所空气中。避免与还原剂接触。搬运时轻装轻卸，防止钢瓶及附件破损。配备相应品种和数量的消防器材及泄漏应急处理设备。

 储存：储存于阴凉、通风的库房。远离火种、热源。库温不宜超过30 ℃。应与易（可）燃物、还原剂分开存放，切忌混储。储区应备有泄漏应急处理设备。

 运输：采用钢瓶运输时必须戴好钢瓶上的安全帽。钢瓶一般平放，并应将瓶口朝同一方向，不可交叉；高度不得超过车辆的防护栏板，并用三角木垫卡牢，防止滚动。严禁与易燃物或可燃物、还原剂等混装、混运。夏季应早晚运输，防止日光曝晒。铁路运输时要禁止溜放。

 废弃：处置前应参阅国家和地方有关法规。废气直接排入大气。

一氧化二氮（Nitrous Oxide）又称，无色有甜味气体，是一种氧化剂，在一定条件下能支持燃烧（同氧气，因为在高温下能分解成氮气和氧气），但在室温下稳定，有轻微作用，并能致人发笑。一氧化二氮和硅烷一起用于在CVD过程中生成氮化硅薄膜。

  1.超临界溶剂。单独或与氧气混合用作牙科、外科和妇产科的剂。也可用作防腐剂、制冷剂、助燃剂、烟雾喷射剂。食品工业作为发泡剂和食品的密封剂。电子工业用于二氧化硅的化学气相沉积等离子工艺。工业用作推进剂。还可用于气密性检查、原子吸收光谱的载体等。检漏剂、制冷剂，以及用作原子吸收光谱用的助燃剂。.

  2.本产品用作医用剂、制冷剂、助燃剂、防腐剂、烟雾喷射剂、标准气和平衡气等，也用于半导体制造中的乳化CVD工序及气相淀积氮化硅的氮源。还可作为原子吸收光谱的氧化气体。

  3. 用于电子工业中二氧化硅的化学气相淀积等离子工艺。

  1.应贮存于阴凉、通风仓库内，仓温不宜超过30 ℃。远离火种、热源。

  2.应与易燃、可燃物分开存放。运输按规定路线行驶，中途不得停驶。

  有通过打击、摩擦、火灾或其他着火源的爆炸危险。

  跟可燃物质接触可能会引起火灾。

  吸入有害。

  对眼睛有刺激性。

  在受压情况下, 有爆炸的危险。

  一、泄漏应急处理

  迅速撤离泄漏污染区人员至上风处，并进行隔离，严格限制出入。建议应急处理人员戴自给正压式呼吸器，穿一般作业工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风，加速扩散。如有可能，即时使用。漏气容器要妥善处理，修复、检验后再用。

  二、防护措施

  呼吸系统防护：一般不需特殊防护。高浓度接触时可佩戴自吸过滤式防毒面具(半面罩)。

  眼睛防护：一般不需特殊防护。

  身体防护：穿一般作业工作服。

  手防护：戴防化学品手套。

  其它：避免高浓度吸入。进入罐、限制性空间或其它高浓度区作业，须有人监护。

  三、急救措施

  吸入：迅速脱离现场至空气新鲜处。保持呼吸道通畅。如呼吸困难，给输氧。如呼吸停止，立即进行人工呼吸。就医。

  灭火方法：本品不燃。消防人员须佩戴防毒面具、穿全身消防服。用雾状水保持火场中容器冷却。迅速切断气源，用水喷淋保护切断气源的人员，然后根据着火原因选择适当灭火剂灭火。