工厂低价转让 2台日本昭和ACE-1100DS 双枪,精控光控,深冷
系统构成
基片伞架 | 球状伞架(Φ718、Φ950、Φ1200、Φ1400、Φ1700)、锥形伞架、平板夹具、反转夹具 |
光学式膜厚计 | OPM-Z1 |
水晶式膜厚计 | XTC/3S、IC/6 |
电脑系统 | SDC-I |
蒸发源 | 电子枪方式、电阻加热方式 |
坩埚 | φ35/φ40坩埚 |
离子源 | NIS-175、NIS-120、离子束辅助镀膜、离子束清洗 |
设备性能
排气时间 | 达到2×10-3Pa不超过10分钟(基片温度设定为300℃) |
极限真空压 | 不超过5×10-5Pa |
基片加热温度 | 常用250℃ |
膜厚分布 | Δnd<±1.0%(按本公司标准发货基准) |
安装条件(例)
ACE-1350S |
所需电力 | 三相 200V±10% 约70kW(最大电力) |
所需冷却水 | 约72L/min、18〜25℃(标准20℃) |
所需压缩空气 | 不低于0.5MPaG(最高0.7MPaG) |
安装面积 | W5150mm×D7000mm×H3150mm,顶棚高度不低于3500mm |
总重量 | 约7600kg |
详情 杨小姐13723521401 18103045976