日本日立HITACHI超高分辨场发射扫描电子显微镜Regulus系列 的详细介绍
- 沿用"SU8200系列"的冷场发射电子枪*2
- 采用电子束在Flashing后出现的高亮度稳定区域作为稳定观察的区间,使得低加速电压条件下兼备高分辨观察和分析的佳性能
- 与现有机型相比分辨率提高了20%左右
(Regulus8240/8230/8220: 0.9 nm/1 kV、Regulus8100: 1.1 nm/1 kV) - 采用污染小、高真空样品仓
- 运用能量过滤器(选配),可观察到多种成分对比度*2
极低着陆电压下高分辨观察
样品:金颗粒
着陆电压:10 V
超高分辨观察
样品:Pt催化剂
加速电压:30 kV
低加速电压下高分辨EDX分析
样品:Sn球
着陆电压:1.5 kV
*2
**Regulus8240/8230/8220
项目Regulus 8100Regulus 8220Regulus 8230Regulus 8240
二次电子分辨率0.8 nm (加速电压15 kV) 1.1 nm (着陆电压1 kV)*3 | 0.7 nm(加速电压 15 kV) 0.9 nm(着陆电压 1 kV)*3 |
着陆电压0.1~2 kV | 0.01~20 kV |
放大倍率20~1,000,000倍*4 | 20~2,000,000倍*4 |
样品台样品台控制3轴马达台(可选5轴马达台) | 5轴马达驱动 |
移动范围X0~50 mm | 0~50 mm | 0~110 mm | 0~110 mm |
Y0~50 mm | 0~50 mm | 0~110 mm | 0~80 mm |
R360° |
T-5~70° |
Z1.5~30 mm | 1.5~40 mm |
再现性- | - | - | ±0.5 µm以下含±0.5 µm |
*3减速模式下观察*4以127 mm × 95 mm底片为基准的倍率