ECLIPSE L200N LSI日本尼康检查显微镜
反射照明观察，除可进行明场、暗场、微分干涉观察之外，更可进行UV(365nm)激发的反射荧光观察。 
【详细说明】
ECLIPSE L200N LSI日本尼康检查显微镜
可以观察的最大硅片直径为200mm
观察倍率15X～3000X(视目镜和物镜的组合而定)
 ECLIPSE L200N 反射照明专用
 
                               L200N    
ECLIPSE L200ND 反射.透射照明专用
 
                                L200ND
 
观察性能的提升
扩大检查范围的反射荧光观察(L200ND)新
反射照明观察，除可进行明场、暗场、微分干涉观察之外，更可进行UV(365nm)激发的反射荧光观察。
对于半导体感光薄膜的残渣、有机EL显示面板的观察发挥了很大的威力。
使用物镜：CFI LU PLAN FLUOR 10X
           
 硅片的明场观察       暗场观察           微分干涉观察       反射荧光观察
反射荧光观察用的电动水银光纤光源[INTENSILIGHT](L200ND)
光源采用了预定心电动水银光纤光源[INTENSILIGHT]。更换灯泡时不用进行灯丝调心和对焦。
灯箱可与主机分离设置，以降低光源发热对显微镜的影响。6段式的调光机能和快门机能，实现了良好的操作性。
约2000小时超长使用寿命的灯泡大幅降低了使用成本。
 
 操作性能提升、理环保
比12V100W更亮的高亮度12V50W卤素灯 新
采用了12V50W的[LV-LH50PC预定心灯箱]，与12V100W相比，耗电量削减了约一半，又可达到与其同等甚至更亮的亮度。
灯丝位置经过优化设计，且灯箱里有反光镜，使照明视场均匀，并提高照明效率。特别是用到50倍以的高倍物镜时，能得到比12V100W亮约20%的观察图象。
更环保，也能防止因热量而造成的焦面偏移的干扰。
抗污染的防静电涂层 新
主机、载物台、镜筒均涂有消静电涂层。为了提高抗污染能力，防止工件因静电感应而受损，从而提高成品率。
可调节到最佳位置进行观察的正立调倾式三目镜筒
视场数25的超大视场，可任意设定0～30°的观察角度。根据使用者体型和观察姿势的不同，可将三目镜筒调节到最佳位置松随意的进行观察。
 
 载物台微调手轮无需移动工件
不用移动工件，载物台微调手柄位置固定于显微镜主机操作部旁。
所有的操作部都尽在手边，移动载物台、对焦等显微操作，不用抬手，只需动动手腕就可轻松执行。
 
耐久性比以前高3倍的电动通用物镜转换器 新
最多可以安装到6个物镜。和偏心较小的物镜结合使用，用高倍物镜观察时切换倍率也很少会出现图象闪动现象。
从低倍到高倍的自由切换更稳定。考虑到使用者，在旋转物镜转换器时会自动切断照明光路，避免光直接照射使用者眼晴。
对焦目标
对焦目标可移入光路，这一特性对于裸硅片之类的低对比度工件的正确对焦成为方便。
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显微镜操作部位集中于底座前部
操作手轮、按键等，都集中于底座前部，更便于使用。一看就能快捷高效的进行显微操作。大大减轻了长时间观察的疲劳感。
 
获取最佳图象，提升与显微镜用数码相机的联动力 
 实现了从观察到图象拍摄、分析的最佳整体化
  •尼康开发提供了便于使用的显微镜、数码相机和软件一体化的高机能设备系统。
  •支持从设定最佳观察条件，到数码拍摄→处理→分析的整个流程。
 
 
用于LSI检查显微镜 ECLIPSE L200N
Wafer Loader NWL200系列    
 与ECLIPSE L200N相结合，对应最新的硅片检查需要。
 运用独立的尼康高端技术，稳定传输超薄型100um硅片。