真空镀膜简介
　一种由物理方法产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术最先用于生产光学镜片，如航海望远镜镜片等。后延伸到其他功能薄膜，唱片镀铝、装饰镀膜和材料表面改性等。如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜，改变加工红硬性。
真空镀膜特点
　采用PVD镀膜技术镀出的膜层，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系数）、很好的耐腐蚀性和化学稳定性等特点，膜层的寿命更长；同时膜层能够大幅度提高工件的外观装饰性能。
真空镀膜原理
　PVD镀膜（离子镀膜）技术，其具体原理是在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。










目前常用的PVD有三种：真空蒸镀、溅射镀膜、和离子镀。它们的工作原理如下：
1.真镀空膜是在1.33x10^-3至1.33x10^-4Pa的压力下，用电子束等热源加热材料使之蒸发，蒸发的原子或分子直接在工件表面形成沉积层。
2.溅射镀膜：是不采用蒸发技术的物理气相沉积方法。施镀时，将工作室抽成真空，冲入氩气做为工作气体，并保持其压力为0.13至1.33Pa。
3.离子镀：是在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离子化，在气体离子或蒸发物质离子轰击作用下，吧蒸发物质或其他反应物蒸镀在工件上。