WK-2081滚镀酸性镀铜工艺

一、特性：

1、高整平，走位性能佳，铜镀层清晰，没有镀层雾气

2、无针孔，消耗平衡

3、主光剂消耗量低

4、可用于滚镀，并且操作稳定，不需要经常大处理镀液

二、滚镀的工艺参数

三、光亮剂消耗与补充

WK-2081开缸剂：只在镀液开缸时及活性炭大处理后产生中镀液带出损失时使用。开缸剂不足时，会使镀层的高中电力密度区产生条纹状镀层；开缸剂过多时会使镀层有雾状，也可取代部分WK-2081B剂的用量。使镀液有更好的分散能力

WK-2081A剂：主要作用在低电流密度区有优良的光亮度填平性，按照镀层的光亮度与平整性及操作温度其消耗量各不相同（消耗量随温度升高而递增）。含量过低时，整个电流密度区的填平度会下降；含量过多时，低电流密度区发黑，没有填平度，与其它位置镀层有明显的分界介，但仍有光亮。

氯离子过多过少的氯离子都会影响镀层的光亮度与整平度，最佳范围在80-100 ppm，过少时会出现树枝状条纹；过多时影响低电流区光亮度与整平度。

★除去过多氯离子的方法（需使用纯度高的锌粉）：

1、温度保持在300左右，将锌粉用纯水调成糊状边搅拌边加入，（1克锌粉除去大约50 ppm氯离子）

2、搅拌30分钟，加入5克/升活性炭，搅拌3小时，镀液静止后过滤，电解2-3小时