单硅晶体超纯水设备主要作用是用于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物，这些杂质有的是以原子状态、离子状态、薄膜形式、颗粒形式存在与硅片的表面。有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、有机污染包括光刻胶、有机溶剂残留物、合成蜡和人接触器件、工具、器皿带来的油脂或纤维。无机污染包括重金属铬、铜、铁、金等，严重影响少数载流子寿命和表面电导;碱金属如钠等，引起严重漏电;颗粒污染源则包括有机胶体纤维、微生物、细菌、尘埃、硅渣等物质，这类物质都会在生产过程中造成不同程度的危害，所以现在的半导体器件生产、太阳能电池硅片、多晶硅、单晶硅的生产过程中都需要使用超纯水进行冲洗，保证整体过程受到的危害降到小。

渗源纯水企业生产的单硅晶体超纯水设备采用的是国内先进的科技，并搭配使用国际进口零部件，加上公司独到的管理经验理念，生产出满足于单硅晶体行业应用的高质量超纯水设备。

工艺流程：

原水箱→原水提升泵→石英砂过滤器→活性炭过滤器→软水器→精密过滤器→一级高压泵→一级反渗透→级间水箱→二级高压泵→中间水箱→EDI提升泵→微孔过滤器→EDI系统→EDI水箱→抛光混床→用水点（≥18.2MΩ.CM）

设备性能：

1. 预处理系统是采用目前技术的装置，它的净水效果显著。可以去除水中的的细菌、泥沙、胶体、悬浮物、异味等杂质。如果水中的硬度较高时，则还会降低水中的硬度。

2. 反渗透技术主要由高压泵、膜克、还有进口反渗透膜的组件、仪表、控制电气等组成。使其水中的电导率下降，电阻率提升。

3. 后处理部分是对反渗透制取的纯水做更进一步的深化处理。使其出水的电阻率可以到18.2兆欧，从而使生产出来的水达到的晶片清洗标准。

4. 超纯水设备的脱盐核心部件为进口的反渗透膜组件，超纯水设备一般都是有预处理装置、反渗透技术、后处理由抛光混床、EDI系统部分共同组成，使其净水的效果显著。

经过这几部分处理之后的水能够满足于单晶硅清洗用超纯水用水要求，部分生产企业要求水中不能含有微生物、真菌等，所以会在后面加装紫外灯杀菌装置来确保水质达到生产所需。