钼靶 密度10.2克/立方厘米。熔点2610℃。沸点5560℃。

钼靶材纯度：99.9% ，99.99%

规格：圆形靶，板靶，旋转靶

钼靶材广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。

纯度：纯钼≥99.95%，高温钼≥99%（添加稀土元素）

密度：≥10.2g/cm3

熔点：2610℃

供货状态：成品态

规格：根据客户要求定制

生产工艺流程：

钼坯(原材料)-检验-热轧--碱洗-冷轧-校平-机械加工-检验-包装

包装方式:木箱包装

工期：定制15天内交货（库存随时发货）。

发货方式：快递或物流（可协商）

运 费：供应商承担。

后期服务：保质期内如出现质量问题，供方承担所有责任（正常使用范围内）。

钼材料适用环境：真空环境或惰性气体保护环境，纯钼较高耐高温1200度，钼合金较高耐高温1700度。

钼材料的适用行业及用途：钼材料主要用在真空高温行业，电子行业，蓝宝石热场及航空航天制造行业等，钼材料经过变形量达到60%以上的轧制加工后，钼的密度基本上接近于理论密度，因此其具有高强度，内部组织均匀和优良的抗高温蠕变性能，被广泛应用于生产蓝宝石晶体生长炉内的反射屏，盖板真空炉内的反射屏，发热带，连接件，等离子镀膜用的溅射靶材，耐高温舟皿等制品。

公司：洛阳高新四丰电子材料有限公司