科研实验专用铪靶材Hf磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

     铪（Hf）是一种带光泽的银灰色的过渡金属，具有塑性，当有杂质存在时质变硬而脆；有6种天然稳定同位素，不与水；空气中稳定，灼烧时仅在表面上发暗，细丝可用火柴的火焰点燃；高温下，铪也可以与氧、氮等气体直接化合，形成氧化物和氮化物。有较高的中子吸收截面，可用作反应堆的控制材料；有较高的中子吸收截面，可用作反应堆的控制材料；铪元素也用于最新的intel45纳米处理器。
产品参数
中文名 铪             元素符号 Hf
原子量 178.49         沸点 4603℃
熔点 2233℃           密度 13.31g/cm3

支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！ 
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。 
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
       我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
       注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
       建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。