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诚翔滤器提供用于前沿工艺的光刻滤光片
PhotoKleen™ NTD滤芯专为腐蚀性有机溶剂应用而设计。
PhotoKleen™ NTD滤光片由所有含氟聚合物材料组成,与更具腐蚀性的光刻溶剂(如乙酸正丁酯(nBA)、环己酮、二丁醚、甲苯和γ-丁内酯)具有优异的化学相容性。
5 nm 额定 PTFE 介质提供高颗粒截留率,同时保持低压降。
好处
- 提供较低的流量 delta-P,以限度地减少 ESD 和气泡形成
- 干运,用于有机光刻溶剂
