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磁控溅射镀膜设备 金属靶材溅射仪
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39800
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郑州科探仪器设备有限公司
中国 郑州
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品牌
郑科探
型号
KT-MJ1
原理类型
真空溅射镀膜机
应用领域
光学薄膜
极限真空度类型
高真空0.00001~0.1Pa
极限真空度
1E-4Pa
镀膜室尺寸
50mm
工作真空度
1E-3Pa
升压率
无Pa/h
抽气时间
5min
溅射电源
射频电源
磁控溅射镀膜设备 金属靶材溅射仪
离子溅射仪为一种有着紧凑结构的桌上型镀膜系统,对于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜尤为适用。试样干燥清洁为离子溅射镀膜的基本要求。在必要时,交换试样与阴极的位置利用火花放电从而对试样表面进行清洁,之后试样复原,再进行溅射镀膜。铁、镍、铜铅等为离子溅射仪常用的阴极材料,有时电刚金、铂、钯、铟和其他金属也能够作为阴极材料,氧气为离子溅射仪常用的反应气体
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