出售韩一HVC-1600/2050/2700DA光学镀膜机 电子束蒸发电镀机 鞋标真空电镀膜机 PVC纳米镀膜机 AR高透膜镀膜机
一，明细介绍：
NO 2016年 - 2019年
EB(电子枪) 1GUN.。韩一 12六
高于源 韩一。(霍尔)
机板泵 爱德华EM275
罗获系 爱德华EM2600
深冷 韩国V-PLUS1000H
品控 XTC+2个品控
阻蒸 1个
二，镀膜机操作步骤
打开总开关,包括冷却水开关和机器开关。
打开镀膜机总开关,样品旋转开关,升降开关按钮。
将玻璃基板至于样品托中,导电一面向下。
蒸镀室、预处理室放气。
打开蒸镀室与预处理室之间的闸板阀(顺时针方向关,逆时针方向开),推拉杆推至大真空室中,将样品放到推拉杆上,将推拉杆拉回至预处理中。关闭闸板阀(顺时关闭,逆时针开)
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三，适用领域
以客户满足为主 HVC-2700DA
耐久性
P采取设计技法 在 Chamber 及 Door 防止 Crack, 具备坚固的门
保证薄膜均匀性及重复性
按照物质分蒸发特性采用可变修正板保证 Dome 全体的均匀性, Batch 之间质量无变.
简便性
不熟练工作人员也会使用, 可以按使用者的要求来控制项目，显示出发生故障时 原因及解决方案.
提供工艺管理
提供 Process recipe 及 Data Logging，很容易管理工艺和质量.
大量生产对应
按照验收标准进行彻底的验收，交付设备反映了客户要求事项，安装后短时间内可以大量生产.
一，主要技术指标：
UPS射频源，精控，单枪，光学膜厚仪监控波长范围：400-1100nm，波长精度：<±1nm， 配置离子源，离子流密度分布均匀; 基底最高加热温度：300℃。 目前可淀积材料包括：SiO2、TiO2、Ta2O5、Nb2O5、Al2O3等 蒸发速率0.5A/s-20A/s， 工作真空：5E-6mbar， 气体（Ar、O2）
五，主要功能：
主要用于可见~短波红外波段光学增透膜、高反膜、截止滤光片，窄带、超窄带、极窄带滤光片等光学薄膜蒸镀，配备两把电子枪和等离子体辅助源，一次可蒸镀多片不同尺寸（1寸、2寸、3寸、4寸、5寸、6寸、8寸、40mm*40mm等）的样品。
六，真空蒸发镀膜原理
1.1 将膜材置于真空镀膜室内 ， 通过蒸发源使其加热蒸发 。 当蒸发分子的平均自由程大于蒸发源与基片间的线尺寸后 ， 蒸发的粒子从蒸发源表面上逸出 ， 在飞向基片表面过程中很少受到其他粒子 （ 主要是残余气体分子）的碰撞阻碍，可直接到达基片表面上凝结而生成薄膜。
1.2 真空镀膜特点
真空蒸镀法优点：设备比较简单 、操作容易；制成的薄膜纯度高 、质量好，厚度可较准确控制；成膜速率快，效率高；薄膜的生长机理比较简单；
缺点：不容易获得结晶结构的薄膜；所形成的薄膜在基板上的附着力较小；工艺重复性不够好等。
2 真空溅射镀膜
2.1 溅射镀膜的机理
所谓溅射就是用荷能粒子（通常是惰性气体的正离子）去轰击固体（简称为靶材）表面，从而引起靶材表面上的原子（或分子）从其中逸出的一种现象。溅射的机理是动量从碰撞的粒子（正离子）传递给晶体点阵粒子的过程。如图2所示，入射离子的动能传递是接连不断地从一个原子传递给另一个原子的过程。
公司名称：东莞市宏诚光学制品有限公司
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