明细介绍：
OWLS-1800是专用于“半导体光学器件”的金属模式溅射系统，适用于12英寸的晶圆。该溅射系统可以扩展应用范围（同时双倍尺寸镀膜，低温镀膜等）
销售技术杨经理：137-2352-1401
特征：
适用于多种晶圆尺寸（12“，10”，8“，6”和4“）
真空晶圆搬运机械手快速清洁的转移系统
3个双旋转圆柱阴极
高反应性等离子体源实现低吸收膜
其他模块，例如光学厚度监控仪（可选）
适用于EFEM并符合SEMI标准
规格：
真空腔体
装片室：宽820mm×高1460 mm×深740 mm
运送室：宽1070×高480×深1070mm
工艺室：宽2600×高740×深2280mm
基板夹具
10片（最大12英寸）
基板旋转滚筒系统
直径1800 mm×高48 mm, 滚筒式, 10 rpm-100 rpm（可调）
反应源
ICP（电感耦合等离子体）
溅射源
双旋转阴极（可选平面靶材）
真空系统
粗抽泵，分子泵，冷阱
性能：
极限压力
装片室：10Pa
工艺室：≤6.0 × 10-4 Pa
抽气速率
装片室，运送室：6分钟 (从大气到 10Pa)
工艺室：≤40分钟(从大气到6.0×10-3 Pa)
工作条件：
设备尺寸
6600 mm (宽) × 6000 mm (深)×3400 mm (高)
电源
3相+G, 380V±7％、127kVA、60/60Hz
水流量
≥196升/分钟
空气压力
0.6 MPa - 0.7 MPa
总重量
约13600 kg
