产品概述：

本系列设可配置美国富士Dimatix或日本柯尼卡KM系列等主 流喷头，能够喷射并打印不同规格的流体，且喷头可清洗，可重复使用，配置有重复误差不超过2μm的运动平台，可实现高精度高密度的图案绘制。

内置控制软件，可实现液滴控制波形输出、液体观测、打印控制、导入目标图形等功能。

技术参数：

（1）打印分辨率：按喷头种类可调节分辨率，可达每种喷头的最高分辨率

（2）供墨系统：容积25-5000ml，可定制

（3）视觉定位精度：优于±5μm

（4）墨水可加热至70℃，温度误差±1℃

（5）废墨收集工位容积：5-10L，可定制

（6）可打印面积：200mm×200mm，带吸附，可定制

（7）旋转台角度：±20°（可定制），精度：±0.05°

（8）正压：0-10Kpa；负压：-0.1~-10Kpa；精度优于0.1Kpa

（9）X、Y轴稳定移动速度不低于500mm/s，Z轴移动速度不低于50mm/s

（10）光栅分辨率：0.1μm，具备位置同步输出功能，支持TTL通讯

（11）三轴机械重复精度：±2μm

（12）喷头可旋转打印，支持喷孔堵塞下选孔打印

（13）真空加热平台最高可加热至80℃（可定制），温度误差±2℃

（14）可选配读取dxf、dwg等工程图格式软件，直接生产打印图

（15）设备尺寸：1400mm×1200mm×1800mm

产品特点：

（1）可搭配Dimatix系列、柯尼卡KM系列等几乎所有的工业级喷头，同时可实现6颗喷头联排打印

(可定制更多),喷头及驱动板卡采用快拆式结构，可实现快速更换

（2）自主开发自动精密供墨系统，配置有循环供墨、正负压切换、加热等功能

（3）搭载多墨路系统，每一路都具备除气功能，具备过滤、液位感应、缺墨自动供墨、喷头purge

等功能，并配置有备用墨路

（4）搭载喷头自动擦拭、清洁、废墨收集和墨滴观测工位

（5）喷头可旋转打印，喷头堵塞情况下支持选孔打印

（6）支持自动打印，可单独定义每个喷头的流程，支持多路不同材料按需打印

（7）支持手动打印，可手动添加作业、暂停、继续、终止打印

（8）自主开发视觉精密定位软件

（9）完全开放式的波形调节，可单独控制每个喷头的波形

（10）配置防尘直线电机，满足超精密、低发尘环境

（11）整合墨滴分析系统，实现材料工艺的一站式开发平台

（12）预留uv固化灯位置 

应用实例：

适用于纳米材料沉积、电子设备制备、电子传感器、电路图绘制、生物芯片、DNA合成等多种领域的生产及科研用途。