产品概述：
本系列设备可配置Dimatix或KM系列等主流喷头，能够喷射并打印不同规格的流体，且喷头可清洗，可重复使用，配置有重复误差不超过2μm的运动平台，可实现高精度高密度的图案绘制。
内置控制软件，可实现液滴控制波形输出、液体观测、打印控制、导入目标图形等功能。
技术参数：
打印分辨率：按喷头种类可调节分别率
供墨系统：容积25-5000ml，可定制
视觉定位精度：优于±5μm
墨水可加热至70℃，温度误差±1℃
废墨收集工位容积：5-10L，可定制
旋转台角度：±20°(可定制)，精度：±0.05°
可打印面积为400mm×400mm，带mark点基材自动摆正，可定制
正压(0-30Kpa)；负压(-0.1~~10Kpa)，压力控制精度优于0.1Kpa
三轴机械重复精度：优于±2μm
光栅分辨率：lμm，具备位置同步输出功能，支持TTL通讯
X、Y轴稳定移动速度不低于500mm/s，Z轴移动速度不低于50mm/s
真空加热平台最高可加热至100℃，温度误差±2℃
可读取dxf、dwg等工程图格式软件，直接生成打印图
设备尺寸：3800×3400×2200（mm）
独立电气柜，并配备机械手和清洗舱
产品特点：
可搭配Dimatix系列、柯尼卡KM系列等几乎所有的工业级喷头，同时可实现6颗喷头联排打印（可定制更多），喷头及驱动板卡采用快拆式结构，可实现快速更换
自主开发自动精密供墨系统，配置有循环供墨、正负压切换、加热等功能
搭载多墨路系统，每一路都具备除气功能，具备过滤液位感应、缺墨自动供墨、喷头purge等功能，并配有备用墨路
搭载喷头自动擦拭、清洁、废墨收集和墨滴观测工位
支持自动打印，可单独定义每个喷头的流程，支持多路不同材料按需打印
支持手动打印，可手动添加作业、暂停、继续、终止打印
自主开发视觉精密定位软件，自主开发绘图软件
完全开放式的波形调节，可单独控制每个喷头的波形
配置防尘直线电机运动控制，满足超精密、低发尘环境
非接触式喷头清洁，配备清洗模块，可自动进行基板清洗打印上下料
全套手套箱，支持无氧环境下打印
应用实例：
本设备适用于纳米材料沉积、电子设备制备、电子传感器、电路图绘制、生物芯片、DNA合成等多种领域的生产及科研用途。
【应用实例】
