• 工艺流程

  
  
  • 预处理：通常包括砂滤、活性炭过滤、软化等步骤，用于去除水中的大颗粒杂质、有机物和硬度离子，防止它们对反渗透膜造成堵塞或损坏。
  • 一级反渗透：经过预处理的水进入一级反渗透装置，在压力作用下，水通过反渗透膜，盐分、有机物等杂质被截留，产水电阻率一般在 0.05-0.5mΩ.cm，可满足一些对水质要求相对较低的半导体生产环节需求 。
  • 二级反渗透：一级反渗透的产水再经过二级反渗透进一步提纯，能更有效地去除水中的残留杂质，使产水水质更高，电阻率可达到更高水平，更接近半导体生产所需的超纯水标准 。
  • 后续处理：为了达到半导体行业对超纯水的严格要求，二级反渗透后的水还可能经过 EDI（电去离子）装置、离子交换树脂、超滤、紫外灯杀菌等后续处理步骤，进一步去除水中的微量离子、有机物和微生物等 。