一、温度窗口控制
- zui佳反应区间：氨水作为还原剂时需在 850–1050℃（zui佳880–920℃），尿素需 950–1150℃12。温度低于下限反应活性下降，高于上限则引发还原剂氧化生成额外NOₓ（如：4NH3+5O2→4NO+6H2O4NH3+5O2→4NO+6H2O）18。
- 温度稳定性要求：锅炉负荷波动或炉内温度分布不均会导致效率下降，需通过多点监测与动态调整喷射策略维持温度稳定114。
二、还原剂与烟气混合均匀性
- 喷射系统设计：采用多级喷嘴、旋流雾化技术优化扩散，并通过CFD模拟布局喷射点，避免局部浓度过高或过低16。
- 烟气流场特性：水泥窑炉因湍流较强，混合效果通常优于普通锅炉；垃圾焚烧炉则因温度不均易导致混合不足210。混合不良可使效率波动达50%–90%2。
三、反应停留时间
- 关键阈值：还原剂在高温区需停留 ≥0.5秒，0.8秒为理想值。时间过短反应不充分，过长（>1秒）则加剧氨氧化副反应12。
- 优化措施：延长分解炉反应区结构或调整烟气流速以增加停留时间1。
四、氨氮比（NSR）控制
- zui佳范围：NSR（氨与NOₓ摩尔比）控制在 1.2–1.3。NSR<1.2时效率随比值上升显著提升，>1.3后效率增幅趋缓且氨逃逸风险剧增12。
五、还原剂类型与特性
- 氨水 vs 尿素：
- 氨水反应速度快，但对储存安全性要求高；
- 尿素需分解为NH₃，其分解效率受温度影响较大16。
- 添加剂应用：添加含O、H₂、CH₄或钠盐的微量助剂，可拓宽温度窗口并提升低温脱硝效率1。
六、其他影响因素
| 因素 | 影响机制 |
|---|
| 烟气成分 | CO未燃尽进入反应区会消耗O₂及OH自由基，干扰还原反应，降低效率并增加氨逃逸210。 |
| 氧含量 | 适量O₂促进反应，但过量会加剧氨氧化副反应6。 |
| 喷枪维护 | 喷嘴堵塞或雾化不良导致还原剂分布不均，需定期清理校准1。 |
工艺优化方向
- 温度调控：通过配风优化与实时监测，缩小温度波动范围至±50℃内14。
- 混合强化：采用压缩空气辅助雾化（液滴粒径50–100μm）及喷枪角度优化14。
- 联合工艺：与低温SCR技术联用（SNCR+SCR），利用逃逸氨二次反应，综合效率可提升至90%以上19。
注：SNCR脱硝效率通常为30%–70%，通过上述核心因素的系统优化（温度窗口、混合均匀性、停留时间、氨氮比协同调控），部分案例可提升至90%12。
