一、产品定义与核心功能

碳化硅PVD溅射托盘（也称载盘或吸盘）是半导体物理气相沉积（PVD）工艺中的关键耗材，主要用于固定晶圆并确保其在溅射过程中的稳定性。核心功能包括：

1. 晶圆固定：通过表面微孔结构（孔径1–100 μm）产生均匀负压吸附晶圆，避免机械夹持导致的应力损伤13。

2. 热管理：高导热性（导热系数≥170 W/m·K）快速导出溅射热量，防止晶圆过热变形16。

3. 耐环境腐蚀：耐受等离子体轰击、强酸（如FH酸、浓H₂SO₄）及高温（长期使用温度＞1,600℃）17。​

⚙️ 二、材料与结构特性

1. 材料构成

• 基体材料：高纯无压烧结碳化硅（SiC含量≥99.1%），密度≥3.10 g/cm³，不含金属杂质13。

• 涂层技术（可选）：部分产品采用CVD法沉积SiC涂层（厚度120±30 μm），提升耐腐蚀性与表面致密性27。

2. 关键性能参数

3. 结构创新

• 微孔吸附层：孔隙率40%，孔径分布均匀，实现全区域吸附力均衡3。

• 蜂窝轻量化背板：降低重量（密度≈铝），提升设备负载效率18。

• 点阵凸点设计：表面覆盖数千个圆柱凸点（直径0.3 mm，高度0.1 mm），减少晶圆接触面积80%，杜绝划痕38。