二氧化铪(HfO₂)为铪的主要氧化物,常温下是白色粉末,有单斜、四方、立方三种晶体结构。熔点约 2780℃,化学稳定性好,不溶于水、盐酸及硝酸,可溶于浓硫酸与氢氟酸。具备高介电常数与宽带隙,是半导体高 k 栅介质核心材料,也用于光学镀膜、耐火材料、核工业控制棒及催化剂等领域。
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