YA-c型氩气纯化装置
氩气纯化器氩气纯化装置工作原理
YA-c型高纯氩气纯化装置采用非蒸散型锆铝16吸气剂为净化剂,在一定的温度下,吸气剂可与氩气中的微量杂质O2、N2、H2、H2O、CO、CO2、CH4等等形成稳定的化合物或固溶体,从而达到对氩气精制的目的。
氩气纯化器氩气纯化装置主要技术指标
氩气纯化器氩气纯化装置杂质要求:
杂质 | N2 | O2 | CO2 | CH4 | 露点 |
含量ppm | <100 | ≤15 | <5 | <5 | -50℃ |
处理气量:1-300m3/h
工作压力0.2-0.8MPa
纯氩纯度:
杂质 | N2 | O2 | CO2 | CH4 | 露点 |
含量ppm | ≤0.2 | ≤0.2 | ≤0.5 | ≤0.5 | -70℃ |
含尘量 | ≤3.5颗/升(对于粒径≥0.5μm尘埃) |
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3.净化剂寿命:每炉可处理99.99%的氩气2500-3750m3
4.操作温度:700-740℃
5.外形尺寸:宽550*深650*高1500mm
6.电源:-50H 220V
7.功耗:.2Kw
8.重量:≈220Kg
氩气纯化器氩气纯化装置一键式氩气纯化装置时为气体公司及需要使用高纯氩气的场所及需要现场制气的用户开发的一款新品,以安全,快捷,稳定,高效,节能,美观等特点服务于广大新老客户,以卓越的气体品质服务于焊接、不锈钢制造、冶炼,还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等金属保护。电子化工,电光源,医学科研等领域,高纯气体纯化器服务于光伏产业高纯保护气氛,满足色谱,光谱,质谱等现代仪表需要
光谱仪, 质谱仪配套氩气纯化装置
本装置系采用非蒸散型锆铝16吸气剂及5A分子筛为净化剂。在一定的温度下,吸气剂可与氩气中的微量杂质O2、N2、H2、H2O、CO、CH4等等形成稳定的化合物或固溶体,从而达到对氩气精制之目的。
技术保障措施;
1 组合式纯化工艺,分级处理。
2 净化器采用特殊结构和装料方法,流速设计合理,气流分布均匀。
3 净化炉采用特殊设计的加热构造,加热均匀、稳定。
4 采用优质管件,阀门,避免管道和阀门影响气体质量。
5 采用优质的电器元件和控制仪表,保证温度稳定,减少温度和影响。
6 净化器的活化程序,严格按照活化程序执行,根据现场实际情况适当调整。
7 对用户的操作员进行设备操作培训,了解设备工作原理,掌握设备操作方法,熟悉设备的开车、停车、停电、停水处理方法。
8 对用户设备建立档案,及时提醒用户对设备进行例行检查和维护。是设备处在最佳工作状态。
本装置可与区熔硅单晶炉配套使用,也可用于激光器、溅射、真空溅射镀膜机。半导体生产、光谱仪,气相色谱仪、特殊灯泡、稀有金属加工等需要用高纯氩气的生产技术领域。