多功能离子镀膜设备： 该系列设备主要是（集）直流磁控溅射，中频溅射和电弧电子蒸发三种技术融合一体，结合线性离化脉冲偏压可使沉积颗料细化，膜层各项性能提高，能在金属制品及非金属表面镀制合金膜、化合物膜、多层复合膜等。经公司技术人员多年专注研发，通过特有的阴极电弧离子和非平衡磁控系统，并开发出整套PROPOWER系列计算机自动控制系统，使镀膜膜层附着力致密度、从复度一致性好等特点，解决了人工手动操作复杂性、膜层颜色不一致等问题。广泛适用于手表、手机壳、五金、洁具、餐具及要求耐磨起硬的刀具、模具等。镀制Tin、TiCN、CrN、TiALN、TiCrN、ZrN、TiNC及各类金属石膜（DLC）。

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磁控溅射的原理是基于阴极辉光放电理论，把阴极表面磁场扩展到接近工件表面，提高了溅射原子离化率。既保留磁控溅射的细腻又增强了表面光泽度。

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电弧等离子体蒸发源性能可靠，在优化阴极及磁场结构镀膜时可在30A电流下工作，镀膜膜层和基底界面产生原子扩散，又具有离子束辅助沉积的特点。

型号真空室尺寸 JTZ-800 JTL-1000 JTL-1250 ￠800×1000MM ￠1000×1000MM ￠1250×1100MM 镀膜方式及主要配置 六个多弧源+一套圆柱靶+一套平面矩形磁控溅射靶 八个多弧源+一对孪生（中频）磁控溅射靶+一套平面矩形磁控溅射靶 十二个多弧源+一对孪生（中频）磁控溅射靶+两套平面矩形磁控溅射靶 镀膜方式及主要配置 电弧电源、直流磁控电源、中频磁控电源、灯丝电源、脉冲电源、线性离化源 工艺气体控制 质量流量计+电磁陶瓷阀 真空室结构 立式侧（单）开门结构，后置抽气系统，双层水冷 真空系统组成 分子泵+罗茨泵+机械泵（5.0×10-4PA） 工件烘烤温度 常温到500度可调可控(PID控温),辐射加热 工件运动方式 公自转变频调速,0~20转/分 测量方式 数显复合真空计:测量范围从大气至1.0×10-5PA 控制方式 手动/自动/PC/PLC+HMI/PC四种方式可选 备注 以上设备可按客户实际及特殊工艺要求设计订做