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该系列设备主要集中频磁控溅射、电弧离子蒸发和离子源及脉冲偏压结合等技术为一体,实行全自动化控制。此设备广泛应用于表带、表壳、手机壳、五金、餐具等工件上镀制 TiN,TiC,TiCN、TiAIN,CrN,Cu,Au,Al2O3等各种装饰膜层。
参数说明:
型号 |
JTL-1090 |
JTL-1110 |
JTL-1312 |
JTL-1613 |
真空室尺寸 |
Φ 1000Χ900mm |
Φ 1100Χ1000mm |
Φ 1300Χ1200 mm |
Φ 1600Χ1300 mm |
镀膜方式及主要配置
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3个电弧+平面矩形阴极2对 |
6个电弧+圆柱阴极2对+平面矩形阴极1对 |
6个电弧+圆柱阴极4对+平面矩形阴极1对 |
8个电弧+圆柱阴极8对+平面矩形阴极1对 |
镀膜种类
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金属膜,介质膜,化合物膜,反应膜,多功能层次膜
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电源
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电弧电源,真空磁控电源,中频磁控电源,脉冲偏压电源,离子源电源
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真空室结构
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立式前(单)开门,后置抽气系统,双层水冷
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真空系统组成
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分子泵(扩散泵)+罗茨泵+机械泵
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极限真空
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8.0Χ10-4
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抽气时间
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大气抽至3Χ10-3Pa≤15min
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工件运动方式
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公 /自转,变频调速
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工件烘烤温度
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常温到 350oC可调可控
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控制方式
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全自动化控制 PC+PLC/PC+HMI
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备注
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该设备可按客户产品及特殊工艺要求订做
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