SEF-G5：激光刻膜机
产品特点:
技术参数:
l 半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器
l 膜面朝上非接触式工作台
l 直线电机驱动
l 四路同步输出
l 自动识别跟踪定位
l 自动进出料
l 在线监测
l 静态显示
型号规格 | SEF-G5 |
有效加工幅面 | 1.1m×1.4m（或635mm×1245mm ） |
最大运行速度 | 2000mm/s |
重复定位精度 | ±10μm |
刻线直线度 | ±10μm / 1000 mm |
典型刻膜线宽 | 30～60μm |
三线外沿总宽度 | 300～500μm |
选项和配件：
高标配，可根据需要移除不需要的部件。
应用和市场：
非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻线、切割），其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜）。
