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专业生产:四氟化碳四
四氟化碳(CF4)
项目 | 指标纯度% |
四氟化碳(CF4) | 99.999% | 99.9997% | 99.99994 |
杂质含量
| 氮气 | ﹤5ppm | ﹤1ppm |
|
氧气 | ﹤2ppm | ﹤0.5ppm | ﹤100ppb |
氩气 | - | - | ﹤20ppb |
氢气 | - | ﹤0.5ppm | ﹤100ppb |
总烃 | ﹤1ppm | ﹤0.1ppm | ﹤50ppb |
一氧化碳 | ﹤1ppm | ﹤0.1ppm | ﹤50ppb |
二氧化碳 | ﹤1ppm | ﹤0.25ppm | ﹤100ppb |
水 | ﹤2ppm | ﹤1ppm | ﹤200ppb |
主要用途:
在常温下,四氟化碳是无色、无臭、不燃的可压缩性气体,挥发性较高,是最稳定的有机化合物之一,在900℃时,不与铜、镍、钨、钼反应,仅在碳弧温度下缓慢分解,微溶于水,在25℃及0.1Mpa下其溶解度为0.0015%(重量比),然而与可燃性气体燃烧时,会分解产生有毒氟化物。
四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,其高纯气及四氟化碳高纯气配高纯氧气的混合气,可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。
四氟化碳参数说明/zh-CN/p288.aspx
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