工艺要件：采用化学纤维以进口设备干法抄造经万级净化室处理而成
特点：纤维长、纯度高、不掉毛、不掉粉、湿强度大
适用范围：超净化环境中仪器、仪表、元器件等的擦拭本产品适用于单晶硅炉等晶体炉的清理，擦拭作用。同时，也可以用于科研院所实验室、光电行业，半导体生产线、线路板生产等行业的清洁、擦拭使用。