宝鸡盈钛金属材料有限公司专业生产真空镀膜用的各种钛圆靶，平面靶,TA0.TA1材质,规格可根据厂家要求制定， 纯度可达99.9%，交货及时,保证质量.价格优惠.欢迎来电咨询;

       靶型有：平面矩形.管形，圆盘形，环状，片状，丝状等，规格和成分还可以根据用户的具体要求定做，对于平面矩形靶材：

     （1）表面光洁度≤0.8um..............................................................................................

     （2）表面平整度≤0.1mm............................................................................................

     （3）尺寸控制：±0.1mm.............................................................................................

      特殊要求以具体图纸为准

       还为客户提供高品质，高纯度，高精度的钛板，钛带，镍板，钛棒，镍棒，等其他有色金属制品。

本公司供应钛圆靶材。参数为：产地* 宝鸡，种类* 纯钛材质，牌号* TA1 TA0，广泛应用于镀膜行业等质量保证，欢迎咨询洽谈。

纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
杂质含量
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
密度
为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的性能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。