多弧离子镀膜设备:
多弧离子镀膜设备是一种高效、无害、无污染的离子镀膜设备，具有沉积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简单、成本低、生产量大的优点。
真空电弧离子的原理是基冷阴极自持弧光放电结合脉冲技术及磁控溅射技术，使沉积粒子细化，膜层的各项性能得以提高。它不仅能在金属制品表面进行镀膜而且能在非金属制品表面制品上进行镀膜，可以镀金属膜、氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化铬、及钛、镍、铬、铜、等化合物膜、多层超硬膜、氮化钛掺金膜和合金膜，并能在极短的时间内完成全部加工工艺过程，是一种多功能高效镀膜设备。广泛应用于工具、模具的超硬涂层，汽车轮毂、陶瓷、高尔夫、制表、酒店用品、卫生洁具、灯具、眼镜镜架、五金制品的装饰涂层等领域。
真空室尺寸
LH-800 LH-1000 LH-1250
￠800×1000MM ￠1000×1000MM ￠1250×1100MM
镀膜方式及主要配置
八个多弧靶 十个多弧靶 十二个多弧源
镀膜方式及主要配置
电弧电源、灯丝电源、脉冲偏压电源
工艺气体控制
质量流量计+电磁陶瓷阀
真空室结构
立式侧（单）开门结构，后置抽气系统，双层水冷
真空系统组成
分子泵+罗茨泵+机械泵（5.0×10-4PA），扩散泵+罗茨泵+机械泵（5.0×10-4PA）
工件烘烤温度
常温到350度可调可控(PID控温),辐射加热
工件运动方式
公自转变频调速,0~20转/分
测量方式
数显复合真空计:测量范围从大气至1.0×10-5PA
控制方式手动/自动/PC/PLC+HMI/PC四种方式可选
备注以上设备可按客户实际及特殊工艺要求设计订做
