·                                  Entry半导体金属打标系统
 
半导体泵浦技术是当前国际国内先进技术，传统灯泵浦光光转换效率有3%-5%，热消耗大，需要庞大的冷却系统，而采用半导体泵浦技术，光光转换效率可达到40%左右，无需配备庞大的冷却系统，体积小巧。无需更换氪灯等耗材，系统免费维护，整机运行成本低。半导体激光器光模式较好，可以做出传统灯泵浦激光器无法达到的工艺效果。我公司自行研制的半导体泵浦激光打标机系统，是目前国内体积最小的半导体激光标记设备，性能稳定，整机免维护时间为20000小时。激光波长：10640NM
平均功率：50W(或10W,30W,100W
标刻范围：110mm*110MM(或300mm*300mm,550mm*550mm)
标刻深度：≤3mm (试材料可调)
标刻速度：≤7000mm/s
最小线宽：0.03mm
最小字符：0.3mm
重复精度：0.0002mm