1、日本FMR是负性感光抗蚀剂，有较好的耐酸、耐碱性，适合精细图文制版；
2、FMR的解像性比较好，由于抗蚀剂中的金属离子含量极少，所以适合于精细移印钢板,半导体管（电晶体）、二极体、IC（集成电路）和LSI（大规模高密度集成电路）等方面使用。使用方法： 1、表面处理：使用白电油对金属板进行完全的清洁。
2、涂布处理：可用多种涂布方法，如旋转、浸蘸、喷涂等。
3、烘干：置入热风恒温干燥器中，80-100℃，20分钟；（置于室温下6小时干燥）4、曝光：用i线（365nm）~g线（436nm）曝光。
5、显影：使用FMR显像液，在常温下显影1分钟，用FMR洗涤液冲洗30秒。
6、烘烤：显影后热风干燥3分钟，可以提高耐腐蚀性 7、蚀刻：按常规处理。