JN-DCLD系列真空离子镀膜机是当今世界上用于表面涂装PVD膜层的先进专用设备,运用PLC及触摸屏实现自动化逻辑程序控制操作,设备结构合理、外观优雅、性能稳定、操作达到人机对话,简便,镀出的膜层牢固且细密,是工业化生产的理想设备。其最大特点是它的环保性,真空镀膜设备属于无三废、无污染的清洁生产设备,无须环保部门审批。由于配有先进的电器控制系统及稳定的工艺界面,能对各种金属进行表面镀膜。例如:钟表行业(表带、表壳、表盘等)、五金行业(卫生洁具、门把手、拉手、门锁等)、建筑行业(不锈钢板、楼梯扶手、立柱等)、精密模具业(冲棒标准件模具、成型模具等)、工具行业(钻头、硬质合金、铣刀、拉刀、刀头)、汽车工业(活塞、活塞环、合金轮毂等)以及钢笔、眼镜等等,使其表面得到既美观又耐磨的功能性磨层。主要镀制的膜层有:离子金、离子银、氮化钛膜、碳化钛膜、氮化锆膜、钛铝合金膜、氮化铬以及RP镀等超硬功能性金属膜。经离子镀膜加工后的工件,可以提高硬度、耐磨度、抗腐蚀和美化的作用。可镀制颜色有钛金系列、锆金系列、拉丝系列、黑色系列、彩色膜层系列共十多种色系。
PVD多弧离子镀原理是把真空弧光放电技术用于蒸发源的技术,即在真空环境下引燃蒸发源(阴极),与阳极之间形成自持弧光放电,既从阴极弧光辉点放出阴极物质的离子。由于电流局部的集中,产生的焦耳热使阴极材料局部的爆发性地等离子化,在工件偏压的作用下与反应气体化合,而沉积在工件表面上形成被镀的膜层。
本公司拥有最完善的售后服务体系,使用本公司设备可免费提供技术工、操作工培训和最先进的生产工艺。
JN-DCLD系列真空多弧磁控溅射复合离子镀膜机型号及技术参数 |
性能 型号 | JN-DCLD-700 | JN-DCLD-900 | JN-DCLD-1000 | JN-DCLD-1250 | JN-DCLD-1400 | JN-DCLD-1600 |
镀膜室尺寸 | Ф700×H900mm | Ф900×H1100mm | Ф1000×H1200mm | Ф1250×H1350mm | Ф1400×H1600mm | Ф1600×H1800mm |
电源类型 | 电弧电源、灯丝电源、脉冲偏压电源、直流磁控电源、中频磁控电源、射频磁控电源、线性离化源 |
真空室结构 | 立式前开门结构、后置抽气系统、双层水冷腔室 |
真空室材质 | 优质不锈钢材质腔体 |
极限真空 | 6.0×10-4Pa |
抽气时间(空载) | 从大气抽至8.0×10-3Pa≤15分钟 |
真空获得系统 | 扩散泵或分子泵+罗茨泵+机械泵+维持泵(具体型号可根据客户的要求进行配置) |
镀膜方式 | 电弧镀膜+磁控溅射镀膜 |
制膜种类 | 装饰膜(氮化钛膜、碳化钛膜、氮化锆膜、钛铝合金膜、氮化铬膜等)、金属膜、反应膜 |
磁控靶类型 | 矩形磁控靶、圆柱形磁控靶、孪生磁控对靶 |
磁控电源功率及磁控靶数量 | 根据不同镀膜工艺和客户的需求进行选配 |
电弧源 | 4台或6台 | 6台或8台 | 8台或10台 | 10台或12台 | 14台或16台 | 16台或18台 |
偏压电源 | 10KW/1台 | 20KW/1台 | 20KW/1台 | 30KW/1台 | 40KW/1台 | 50KW/1台 |
工件转架转动方式 | 行星式公自转、变频调速(可控可调) |
工件烘烤温度 | 室温至450℃可控可调(PID温控) |
工艺气体 | 3路或4路工艺气体流量控制及显示系统 选配自动加气系统 |
冷却方式 | 水循环冷却方式,另需配冷却水塔或工业冷水机或深冷系统。(客户提供) |
控制方式 | 手动/自动一体化方式、触摸屏操作、PLC或计算机控制 |
整机总功率 | 40KW | 45KW | 50KW | 60KW | 75KW | 90KW |
报警及保护 | 对泵和靶等缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警,并执行相应保护措施及电气联锁功能。 |
设备占地面积 | W2m×L3m | W2.5m×L3.5m | W3m×L4m | W4m×L5m | W4.5m×L6m | W5m×L7m |
其他技术参数 | 水压≥0.2MPa、水温≤25℃、气压0.5-0.8MPa |
备 注 | 镀膜设备的具体配置可根据客户的镀膜产品工艺要求进行设计。 |