清洁-光盘模板清洁 随着HD-DVD和蓝光格式的出现，光盘技术迎来了它的第三代高密度数据存储介质。当复制厂极力追求高生产率和高质量时，光盘技术也先后发展到更高的存储量。因此对于复制厂来说，为了与工业上的增长需要并驾齐驱，就必须使用新的技术和工艺。PVA TePla提供了一种新型的气体等离子体工艺，以替代湿化学、紫外线/臭氧方法去除光刻胶、钝化模板和改善模板。使用M4L等离子体系统的用户报告在工艺稳定性、化学品和劳动力的费用节约、更高的生产率和消除几种特定的缺陷方面取得了显著的改善。
钝化-模板钝化 第一次电铸生成的模板叫"父版".在用"父版"生成"母版"("父版"的反信号)前，首先要对"父版"进行氧化钝化。同样地，在用"母版"生成"子版"前，也要对"母版"进行钝化。此前钝化都是通过湿化学方法或臭氧处理进行，PVA TePla的M4L使得钝化可以在洁净、干燥的环境下单步完成。 改善-消除复制污点 聚碳酸脂较差的脱模性会使得当模板从模具上卸下时易被划伤和阻塞。这导致不对称的凹坑/凹槽壁出现在复制品上形成一个污点。这种缺陷可以表现为不同形式如斑点、水纹、粘连或幻影，且主要是基于外观原因而非可读性原因需要避免。当使用等离子体技术去除光刻胶时，用户发现可以减少大约70%的这些缺陷，硬斑点可减少10%，而DVD上的水纹则全部被消除。