四氟化碳作为一款特种超低温制冷剂，主要应用于要求温度非常低的深冷设备中（包括科研制冷、医用制冷等），四氟化碳同时也是超低温配合冷媒的重要组分。四氟化碳（四氟甲烷）是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体，其高纯气及四氟甲烷高纯气配高纯氧气的混合气，可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻，在电子器件表面清洗、太阳能电池的生产、激光技术、气相绝缘、泄漏检验剂、印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。