此参数仅供参考，客服处有详细的资料，

请在线咨询： 027 59723889   15926356995    

QQ：1719175754      

 

 

 

 

激光刻膜机技术特点

•采用半导体端面泵浦光纤耦合全固态激光器，性能指标包括脉冲的稳定性、脉宽、峰值功率等参数均达到世界先进水平。

•膜面朝上非接触式工作台设计不但能有效的解决玻璃运行中的平稳性，还能解决玻璃摩擦问题。

•采用全自动控制，包括自动进出料、自动识别、自动跟踪、自动校正和自动定位。

•自动校正和自动定位，这在国际还是首创。当检测到电池片缺陷时，可立即进行重刻和补刻。

激光刻膜机应用及市场

非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜（SnO2、AZO、ITO）、非晶硅膜系（a-Si、μc-Si）、背电极膜（ZnO、Al）等的激光刻膜（刻线、切割），其它薄膜电池的膜层刻膜（金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜）。

 

激光刻膜机技术参数

 

型号规格	SEF-G5
有效加工幅面	1.1m×1.4m（或635mm×1245mm ）
最大运行速度	2000mm/s
重复定位精度	±10μm
刻线直线度	±10μm / 1000 mm
典型刻膜线宽	30～60μm
三线外沿总宽度	300～500μm

 

设备性能

•该设备采用非接触式的工作台，不但解决了玻璃运行中的平稳性，还有效地解决了摩擦问题。

•使用世界一流的高性能激光器，其性能指标包括脉冲的稳定性、脉宽、峰值功率等参数均达到世界先进水平。

•控制方面，采用全自动控制，包括自动进出料、自动识别、自动跟踪、自动校正和自动定位，这在国际还是首创。

•当检测到电池片缺陷时，可立即进行重刻和补刻；更可选择全部检测或抽检。

•G5”属于高标设备配置，国内的客户基本要做的是“减法”而不是“加法”。当客户不需要某些功能时，可根据要求去除,更可根据实际要求进行定制。

 

 

 

 

 

展望未来：在未来的发展中，三工光电将继续贯彻“专业化、产业化、全球化”的发展战略，加强自主创新力度，积极推进结构化调整，加快转变发展方式，坚持“专业化和实用化”的产品设计原则，坚持“中国制造”，提升企业在全球的竞争能力，把“三工光电”品牌做大、做精、做强，实现三工光电建设一流企业的梦想，并为激光技术造福人类开辟新的篇章。