PPC等离子清洗/去胶系统是一台台式微波等离子清洗机设备。等离子去胶机融合了下面的特点，并在众多的应用领域中得到肯定。

等离子体表面处理仪的应用范围：   

* 清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片。

* 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。

* 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质。

* 清洗ATR元件、各种形状的人工晶体、天然晶体和宝石。

* 清洗半导体元件、印刷线路板。

* 清洗生物芯片、微流控芯片。

* 清洗沉积凝胶的基片。

* 高分子材料表面修饰。

* 牙科材料、人造移植物、医疗器械的消毒和杀菌。

* 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。​

产品特色

   负载循环控制，模拟功率控制

处理机存储

水冷底座

减少污水排放

安全保护设计

操作简便 维护方便

应用范围：

混合电路板制造中基片的清洗

打线工艺前清洗电子部件，提高其可靠性

锡焊或焊接工艺前,关键性镀金部件的清洗

清洗半导体元器件

光刻胶去胶

上胶、印刷和其它表面浸湿操作的表面准备

镀膜前对光学器件清洗

清洗石英、蓝宝石及其它材料

适用工艺：

打线垫清洗、减少金属氧化物、清洗 Pd-Ag 裸芯片垫；

去除光刻胶、塑料表面上胶处理、去除油渍或是环氧残留物；

清洗陶瓷基片、清洗玻璃部件、清洗光学部件、清洗半导体表面、清洗镀银部件；

    塑胶密封剂去除--失效模式分析

型号	PLASMA-PREEN II #862	PLASMA-PREEN II #973
反应舱尺寸(H*W*D)	203mm x 152 mm x 50mm	229 x 178 x 76 mm
冷却面(H*W)	203 mm x 152 mm	229 mm x 178 mm
反应舱	方形舱体	方形舱体
反应舱材质	派热克斯玻璃&铝材	派热克斯玻璃&铝材
水冷式	水冷装置	水冷装置
负载比	10%至连续性	10%至连续性
标准流量	5cu-ft./Hr.@STP	5cu-ft./Hr.@STP
频率(GHz)	2.45 GHz	2.45 GHz
功率(Watts)	100至750之间调节	100至750之间调节
重量 (Kg)	29.5kg	38.5kg

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