单晶硅划片机技术特点
泵浦源采用进口新型半导体材料,大大提高电光转换效率。
全封闭光路设计,光钎传输,确保激光器长期连续稳定运行,对环境适应能力更强。
低电流、高效率。工作电流小,速度快(达220mm/s)基本做到免维护,无材料损耗,零故障率,运行成本更低。
整机采取国际标准模块化设计,结构合理,安装维护更方便简洁。
单晶硅划片机应用及市场
太阳能行业单晶硅、多晶硅、非晶硅带太阳能电池片和硅片的划片(切割、切片)。
单晶硅划片机设备主要技术参数
型号规格 SES15 激光波长 1.06μm 划片精度 ±10μm 划片线宽 ≤0.03mm 激光重复频率 20KHz~100KHz 最大划片速度 230mm/s 激光最大功率 根据激光器的选择,可提升最大功率 工作台幅面 350mm×350mm 工作台移动速度 ≥80mm/s 工作台 双气仓负压吸附,T型台双工作位交替工作 使用电源 220V/ 50Hz/ 1KVA 冷却方式 强迫风冷
单晶硅划片机设备性能
激光器泵浦源采用进口新型半导体材料,大大提高电光转换效率。
全封闭光路设计,光钎传输,确保激光器长期连续稳定运行,对环境适应能力更强。
控制面板人性化设计,操作简单程序化,避免误动作。声光警示报警,完备的设备运行保护功能,并符合激光安全国际标准。
T型台双工位交替运行,双气仓真空吸附,提高工作高效率。
根据行业特点专门设计的控制软件,人机界面友好,操作方便。划片轨迹显示,便于设计、更改、监测。
联系人:曾小军(三工光电 电子商务部)
联系方式QQ:1737335902
手 机:15671696591
阿里旺旺:suniclaser01
公司名称:武汉三工光电设备制造有限公司
公司联系地址:湖北省武汉市武大科技园四路
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