铌是低温超导材料，也是医疗亲生物金属元素，作为钽金属的同族兄弟元素，也可应用电子管的电极、整流器、电容，其氧化物具有优良的介电性能，也具有优良的光电子性能。
铌靶或者氧化铌是光电薄膜厂家最常用的靶材。铌靶的表面光滑，晶粒织构主要是［111］型织构。由于铌具有高导电性、高热稳定性和对外来原子的阻挡作用，故用贱射镀膜法在工件和集成电路表面上镀上铌镀层，可防止腐蚀及防止铜向基体硅中扩散的阻挡层。因而作为电极材料和表面工程材料（BM），铌靶材已经被广泛应用于船舶、化工、液晶显示器（LCD）以及耐热耐腐蚀高导电等镀膜工业中。NbOX高折射率材料，应用于光学薄膜增透截止膜，NbO是导电膜层。
平面铌靶
铌靶
氧化铌靶
铌靶相关性能特征：
1、熔点1532℃
2、密度4.55g/cm3
3、导热系数(25℃):54(W/M.K)
4、纯度＞99.95%
5、晶粒直径＜100μm
铌靶包装方式：真空包装，木箱装放。
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