主要用途：  

广泛应用于电子、电镀、涂装、化妆品、实验室、检测、科研机构等行业的镀金、镀银、助焊剂、光通信、发光二级管LED、LCD、集成电路、线路板、PCB、FPC等洗清和配药。高精密光学镜片冲洗用水;微电子部件的清洗用水；化学试验分析用水；精密电镀用水、胶片冲洗。晶元和半导体清洗、单晶硅和多晶硅/太阳能电池冲洗、表面擦洗、涂装、化妆品配液、蓄电池、洁净布等对水质要求高的地方。

产品生产过程中经二级反渗透主机及EDI设备处理，出水水质可达18MΩ·cm的高电阻率。

工艺流程

二级反渗透+EDI系统（出水18mΩ.cm）

原水箱—原水泵→多介质过滤器→活性炭过滤器→软水器→保安过滤器→一级高压泵—一级反渗透主机→PH调节—二级级高压泵—二级反渗透—纯水箱—脱气装置—微孔过滤器→EDI系统→抛光混床系统—储水罐→纯水输送泵→用水点

包装规格：有25L和1000L桶包装。

水质标准：国家电子级纯水标准